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直径50mmサンプル用精密研磨治具
GPC
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-50A 精密研削および研磨コントローラ (略してラッピング コントローラ) は、主にサンプル表面の平面度および平行度を制御するために使用され、研磨されたサンプルの寸法精度が高く、表面状態が優れています。主にUNIPOL-802研削研磨機での使用に適しています。GPC
-50A 精密研削および研磨コントローラは、ワークピースの研削および研磨に不可欠な精密ツールであり、特に高い表面品質が要求される小型の薄片サンプルに適しています。 -
ミニ自動グラインダー＆ポリッシャー
ユニポール
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-300 ミニ精密グラインダー/ポリッシャーは、主に小さな金属組織サンプルの研削、特に透過型電子顕微鏡 (TEM
) サンプルの研削と研磨に使用され、最も薄いサンプルは 50 μm まで研削できます。幅広い材料を粉砕することができ、結晶、セラミック、ガラス、金属、岩石サンプル、鉱物サンプル、PCB基板、赤外線光学材料（セレン化亜鉛、硫化亜鉛、シリコン、ゲルマニウム、耐火物、複合材料、高分子材料など -
直径80mmサンプル用精密研磨治具
GPC
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-80A 精密研削および研磨コントローラ (略してラッピング コントローラ) は、主にサンプル表面の平面度および平行度を制御するために使用され、研磨されたサンプルの寸法精度が高く、表面状態が優れています。主にUNIPOL-1202およびUNIPOL-802研削盤および研磨機での使用に適しています。特に地質薄板の研削・研磨に適しています。 -
多目的精密8インチ研磨機
ユニポール
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-810精密研磨機は、結晶、金属、セラミックス、ガラス、岩石サンプル、鉱物サンプル、PCBボード、赤外線光学材料（セレン化亜鉛、硫化亜鉛、シリコン、ゲルマニウムおよびその他の結晶など）、耐火物などの研削および研磨に使用されます。光学部品、化合物半導体基板、セラミック基板、サファイア、バナジン酸イットリウム、ニオブ酸リチウム、ガリウムヒ素などの材料、複合材料、シールなど。この機械には、象嵌または円形の金属組織サンプルの研削と研磨を容易にする桃形の穴のサンプルプレートが装備されています。 -
直径100mmサンプル用精密研磨治具
GPC
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-100A 精密研削および研磨コントローラ (略してラッピング コントローラ) は、主にサンプル表面の平面度および平行度を制御するために使用され、研磨されたサンプルの寸法精度が高く、表面状態が優れています。主に ユニポール
での使用に適しています。 -1202 および ユニポール
-1502 研削および研磨機。 -
デュアル 8 インチ プラテン グラインダーおよびポリッシャー
ユニポール
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-820金属組織研削および研磨機は、主に金属材料だけでなく、セラミック、ガラス、PCBボード、岩石サンプル、鉱物サンプル、赤外線光学材料（セレン亜鉛など）などの他の非金属材料の研削および研磨に使用されます。 ユニポール
-820金属組織研削および研磨機は、二重研削ディスクの構造を採用しています。 -
精密厚さ検査機
SKCH
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-1(A) 精密厚さ計は、シンプルな構造で低価格、高精度の測定器です。研究室で一般的に使用される厚さ計には、指針式とデジタル表示式の 2 種類があります。デジタル表示タイプは直感的で敏感な読み取り値を持ち、個人の使用習慣に応じて調整できます。主に各種材料の厚さの精密測定に使用されますが、その他の物の高さや厚さの測定にも使用できます。 -
耐久性の高い (8 インチ) 精密研削および研磨機
ユニポール
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-830 金属研削研磨機は、主に大学、研究機関、金属研究所向けに当社が設計、開発した手動研削研磨機です。金属材料だけでなく、結晶、セラミック、ガラス、プリント基板
基板、岩石サンプル、鉱物サンプル、赤外線光学材料 (セレン化亜鉛、硫化亜鉛、シリコン、ゲルマニウムなど) などの他の非金属材料も研削および研磨できます。結晶）、耐火物、複合材料、有機高分子材料など -
自動加圧ラップ研磨機
ユニポール-800M 多点機械圧力研削研磨機は、3 点機械バネ圧を採用しています。トップコラムは加圧バネの作用により回転する定盤上に試料を押し付け、試料板の移動に伴って試料を研削・研磨し、試料の位置決め・研磨を実現します。この機械は主に材料研究の分野で使用され、金属、セラミックス、ガラス、赤外線光学材料（セレン化亜鉛、硫化亜鉛、シリコン、ゲルマニウム、その他の結晶など）、岩石サンプル、自動研削および研磨に広く使用されています。鉱物サンプル、複合材料、ポリマー材料などの 工場での小規模生産も可能です。
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