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シングルヘッド高真空マグネトロンプラズマスパッタリングコータ
VTC
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-600-1HD シングルヘッドマグネトロンスパッタリングコータは、当社が新たに開発した高真空成膜装置で、単層または多層の強誘電体膜、導電膜、合金膜、半導体膜、セラミック膜、誘電体膜、光学膜、酸化膜、硬質膜、PTFE膜など
VTC
-600-1HD シングルヘッドマグネトロンスパッタリングコータにはターゲットガンが 1 台装備されており、強磁性ターゲットまたは弱磁性ターゲットを選択できます。 -
デュアルヘッド高真空マグネトロンプラズマスパッタリングコータ
VTC
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-600-2HD デュアルヘッドマグネトロンスパッタリングコータは、当社が新たに開発した高真空成膜装置で、単層または多層の強誘電体膜、導電膜、合金膜、半導体膜、セラミック膜、誘電体膜、光学膜、酸化膜、硬質膜、PTFE膜など。VTC
-600-2HDデュアルヘッドマグネトロンスパッタリングコータには、ターゲットガン2台と電源2台、非導電性材料のスパッタコーティング用RF電源1台が装備されています。導電性材料のスパッタ コーティング用の 直流
電源 1 台。 -
3つのスパッタリングソースを備えたプラズマスパッタリングコータ
VTC
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-600-3HD 三頭マグネトロンスパッタリングコータは、当社が新たに開発した、単層または多層の強誘電体膜、導電膜、合金膜、半導体膜、セラミック膜、誘電体膜の成膜に使用される成膜装置です。 VTC
-600-3HD 3 ヘッドマグネトロンスパッタリングコーターには、ターゲットガン 3 台、非導電性材料のスパッタコーティング用 RF
電源 1 台、直流
電源 2 台が装備されています。導電性材料のスパッタコーティング用の消耗品。 -
3つのスパッタリング源とグローブボックスを備えたプラズマスパッタリングコーター
VGB
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-600-3HD 薄膜電池作製システムは、グローブボックス内で実験操作を行うことができ、単層または多層の強誘電体膜、導電膜、合金膜、半導体膜、セラミック膜、誘電体膜、光学膜、酸化膜、硬質膜、PTFE膜など。3台のターゲットガンと1台のRF電源を備え、各種ターゲット材料のスパッタコーティングが可能です。RF
電源は、転送スイッチによって任意のターゲット ヘッドに接続できます。