シングルヘッド高真空マグネトロンプラズマスパッタリングコーター
ブランド Shenyang Kejing
製品の産地 瀋陽、中国
納入時間 22営業日
供給能力 50セット
VCTC の-600-1HD シングルヘッドマグネトロンスパッタリングコーターは、当社が新たに開発した高真空コーティング装置であり、単層または多層の強誘電体膜、導電膜、合金膜、半導体膜、セラミック膜、誘電体膜、光学膜、酸化膜、硬質膜、PTFE 膜などを作成するために使用されます。
VCTC の-600-1HD シングルヘッド マグネトロン スパッタリング コーターには 1 つのターゲット ガンが装備されており、強磁性ターゲットまたは弱磁性ターゲットを選択できます。
主な特徴
1. ターゲットガンが 1 つ装備されており、非導電性材料のスパッタコーティングには 無線周波数 電源を 1 つ選択し、導電性材料のスパッタコーティングには 直流 電源を 1 つ使用します。
2. 幅広い用途に対応した多種多様な薄膜を作製できます。
3. 小型で操作が簡単
T技術的パラメータ
商品名 | VCTC の-600-1HD シングルヘッドマグネトロンスパッタリングコーター |
製品モデル | VCTC の-600-1HD |
設置条件 | この装置は、標高1000m以下、温度25℃±15℃、湿度55%右±10%Rhの範囲内で使用する必要があります。 1. 水: 装置には自己循環式水冷却装置(純水または脱イオン水で満たされる)が装備されています。 2. 電気: AC220V 50Hz、良好な接地が必要 3. ガス:装置室内にアルゴンガス(純度99.99%以上)を充填する必要があり、アルゴンガスボンベ(Ø6mmダブルフェルールジョイント付き)および減圧弁はユーザーが用意する必要があります。 4. 作業台:サイズ1500mm×600mm×700mm、耐荷重200kg以上 5. 換気装置:必要 |
主なパラメータ (仕様) | 1.電源電圧:220V 50Hz 2. 電力: <1KW (真空ポンプは含みません) 3. チャンバーの内径:&注意;Ø300mm 4. 真空度の限界:9.0×10-4Pa 5. サンプルステージの加熱温度:RT-500℃、精度±1℃(実際のニーズに応じて温度を上げることができます。) 6. ターゲットガンの数:1個(その他の数量はオプション) 7. ターゲットガンの冷却方法:水冷 8. ターゲット材料のサイズ:Ø2″、厚さ0.1~5mm(ターゲット材料によって厚さは異なります) 9. 直流 スパッタリング電力:500W、無線周波数 スパッタリング電力:300W(ターゲット電源の種類はオプション:直流 電源 1 台または 無線周波数 電源 1 台。) 10. サンプルステージ:Ø140mm、オプションのバイアス電圧機能は、お客様の要件に応じてインストールでき、より高品質のコーティングを実現します。 11.サンプルステージの速度:1rpm〜20rpmの範囲で調整可能 12. 作動ガス: Arおよびその他の不活性ガス 13. 吸気経路:質量流量計は 2 つの吸気経路を制御します。1 つは 100SCCM、もう 1 つは 200SCCM です。 |
製品の寸法と重量 | 1. 本体寸法:500mm×560mm×660mm 2. 全体寸法:1300mm×660mm×1200mm 3. 重量:160kg 4.真空チャンバー寸法:φ300×300mm |
標準付属品 | 1. DC電源制御システム:1セット(オプション) 2. RF電力制御システム:1セット(オプション) 3. ウォータークーラー:1個 4. ポリエステルPUパイプ(Ø6mm):4m |
オプションのアクセサリ | 1. 金、インジウム、銀、プラチナなど様々なターゲット材料。 2. 膜厚モニターシステム 3. 分子ポンプ(ドイツから輸入) |
のランティ
1 年間限定、生涯サポート付き (不適切な保管条件による錆びた部品は除く)
ロジスティクス