球状パルスレーザー蒸着システム
ブランド Shenyang Kejing
製品の産地 瀋陽、中国
納入時間 44営業日
供給能力 50セット
このシステムは、球状パルスレーザー蒸着システム（ＰＬＤ）の研究開発装置です。パルスレーザー蒸着技術は広く使用されており、金属、半導体、酸化物、窒化物、炭化物、ホウ化物、ケイ化物、硫化物、フッ化物など、さまざまな物質の薄膜を作成するために使用できます。ダイヤモンドや立方晶窒化物膜など、合成が難しい材料膜の作成にも使用されます。
T技術的パラメータ
商品名 | 球状パルスレーザー堆積システム（ＰＬＤ） |
設置条件 | 1.周囲温度：10℃～35℃ 2. 相対湿度：75％以下 3. 電源：220V、単相、50±0.5Hz 4. 設備電力：4KW未満 5.給水：水圧0.2MPa～0.4MPa、水温15℃～25℃、 6. 機器の周囲の環境は整頓され、空気は清潔で、電気機器やその他の金属表面の腐食や金属間の伝導を引き起こす可能性のあるほこりやガスがないようにする必要があります。 |
主なパラメータ （仕様） | 1. システムは球形構造と手動の前面ドアを採用しています。 2. 真空チャンバーの部品と付属品はすべて高品質のステンレス鋼（304）で作られ、アルゴンアーク溶接されており、表面はガラスブラストと電気化学研磨および不動態化処理が施されています。 3.真空チャンバーには目視観察窓が装備されており、真空チャンバーの有効サイズはΦ300mmです。 4. 真空度の限界: ≤6.67×10-5パ（ベーキング・脱ガス後、600L/S分子ポンプで空気を送り、前段に8L/Sを使用） システム真空リーク検出のリーク率: ≤5.0×10-7パ.L/S;&注意; システムは大気から8.0×10まで空気を送り込み始める。-4パ までは 40 分で到着します。&注意; ポンプを12時間停止した後の真空度: ≤20 パ 5.サンプルステージ：サンプルサイズはφ40mm、回転速度は1〜20RPM、基板ステージと回転ターゲット間の距離は40〜90mmです。 6.サンプルの最大加熱温度：800℃、温度制御精度：±1℃、温度制御には温度制御メーターを使用します。 7. 4 ステーション回転ターゲット: 各ターゲット位置は φ40mm で、バッフル/シャッター上に 1 つのターゲット位置のみが露出され、レーザー ビームは上部のターゲット位置に当たる必要があり、回転ターゲットには公転と自動回転の機能があります。 8. 真空チャンバー内にベーキング、照明、水圧警報装置が設置されている 9. MFC一方向質量流量計（吸入空気を制御するため）：0〜100sccm |
保証
&注意;&注意;&注意;&注意;1 年間限定、生涯サポート付き (不適切な保管条件による錆びた部品は除く)
ロジスティクス
