ホワイト合成皮革研磨パッド

グラインダー用研磨パッドの紹介：

グラインダー用研磨パッドは、当社のUNIPOLシリーズ研削・研磨装置向けに特別に設計された高性能研磨アクセサリです。主に様々な材料サンプルの精密研磨および化学機械研磨（CMP）工程に使用されます。グラインダー用研磨パッドは、様々な研削・研磨機のモデルに合わせて直径をカスタマイズできます。裏面には高強度粘着剤が付いており、研磨機のベースプレートに素早く固定できるため、設置が簡単かつ便利です。

この金属組織研磨パッドシリーズには、平面型と溝型の2つの構造形式があります。

• 平面の金属組織研磨パッドは、細かいベルベットの表面構造を備えており、適切な量の研磨液を効果的に吸収および放出し、安定した研磨状態に適しています。

• 溝付き金属組織研磨パッドは表面に規則的な溝構造があり、研磨液の貯蔵および分配能力が強化されており、研磨効率と表面均一性がさらに向上します。

ラボサンプル研磨パッドは、良好な平坦性、適度な柔軟性、耐摩耗性を備えており、結晶材料（サファイア、石英、炭化ケイ素など）、金属材料、セラミック材料、その他の硬脆材料の高精度研磨に適しています。半導体、オプトエレクトロニクス、材料科学分野など、幅広い用途に使用されています。

ラボサンプル研磨パッドの技術的パラメータ：

専門的な技術を活用して、研究機器のワンストップソリューションを構築します。

プロセス全体をカバーする完全な製品ライン:

当社は、UNIPOL シリーズなどの高級研削・研磨装置だけでなく、プロ仕様の消耗品も幅広く取り揃えています。

サンプルの切断、取り付け、研削、研磨からその後の分析やテストまで、当社は機器や付属品のワンストップ調達サービスを提供しており、お客様がサプライヤーを選択する時間とコストを節約します。

深い技術的専門知識と強力なブランド評判:

当社の装置は半導体、オプトエレクトロニクス、材料科学などのハイテク分野で広く使用されており、特に結晶材料（サファイア、炭化ケイ素など）や精密セラミックスの加工において成熟した技術ソリューションを備えています。

高度にカスタマイズ可能な機能:

研磨パッドの直径（Ø70mm - Ø381mm）と溝構造がさまざまな機械モデルに応じてカスタマイズできるのと同様に、当社の装置と付属品は、科学研究における非標準の特別な要件を満たすために、顧客の特定の実験ニーズに応じてカスタマイズおよび開発できます。