真空実験室用ホットプレートの紹介

材料研究室の日常業務では、しばしば難しいジレンマに直面します。それは、超薄サンプル（結晶、半導体ウエハー、燃料電池基板など）を高温環境（300℃～500℃）で熱処理またはコーティングする必要があるものの、従来の機械的な固定方法では応力による損傷が簡単に発生してしまうという問題です。

この実験上の課題に対処するために、私たちのチームはHP-500V真空を特別に設計しました。実験室用ホットプレート本日は、この装置がどのようにして高真空吸着と均一な高温加熱を両立させているのか、技術的な観点からお話ししたいと思います。

I. コア材料: 鋳造真鍮の使用にこだわる理由は何ですか?

多くの実験室用ホットプレート市販のアルミ合金やセラミック製のものが多くありますが、HP-500Vでは最高使用温度を500℃に設定しています。この温度域では、一般的なアルミはクリープが発生しやすく、セラミックは耐熱性に優れているものの、熱均一性の点では若干劣ります。

コア加熱プレートの材質として鋳造真鍮を選択しました。

• 変形耐性：鋳造真鍮は500℃でも優れた機械的強度を維持し、二重層放熱構造設計と組み合わせることで、長期間の高温動作中に表面が反らないことを保証します。

• 熱均一性：銅は高い熱伝導率を持つため、発熱体から表面全体に熱が素早く伝達されます。化学分析や物理測定実験において、銅の物理的特性により、中心点（"）と周辺点（"h）間の温度差が自然に最小化されます。

II. 真空吸着：

HP-500Vの最大の特徴実験室用ホットプレート 350mm×240mmの有効加熱面積内に精密吸着微細孔を配置しています。

動作原理：実験室用ホットプレート 外部真空ポンプが必要です（推奨排気速度70L/分以上）。底部の負圧チャンバーを通して、加熱プレート表面に強力な吸着力が発生します。

応用シナリオ：これは特に熱分解噴霧法や燃料電池基板コーティングにおいて重要です。薄膜サンプルを表面にしっかりと吸着することでサンプルの固定問題を解決し、サンプルが銅板に密着するため、熱伝達効率が大幅に向上し、エアギャップによる温度誤差を排除します。

III. 強力なハードウェアとそれにマッチしたソフトウェア。この装置は単なる加熱プレートではなく、精密な温度制御システムです。

PID人工知能温度制御：AI PIDアルゴリズムを採用し、±1℃の安定した温度制御精度を実現します。加熱プロセス中はオーバーシュートを自動的に抑制し、定温段階では周囲温度の小さな変動にも迅速に対応します。

電力構成: 3500W の高出力設計により、加熱速度が速くなり、実験の待ち時間が短縮されます。

IV. エンジニアの観点から見たインストールと使用に関する提案。

メーカーの技術者として、この機器を効果的に使用していただくために、デバッグの経験に基づいたいくつかの提案があります。

周囲の空気の流れについて（非常に重要）

本装置は高出力ですが、エアコンの吹き出し口の近く、ファンの直接風の当たる場所、または強い風が吹くドラフト内には絶対に設置しないでください。実験データによると、強い対流気流は加熱プレート表面の温度分布の均一性を著しく乱し、風冷効果によってエッジ温度が低下することが示されています。

電源環境:

その実験室用ホットプレート 定格電流は約16A（220V/3500W基準）ですが、起動時にサージ電流が発生します。設置要件には、単相AC 220V、50Hz、25Aの電源が必要と明記されており、適切に接地する必要があります。研究室の電気回路を必ずご確認いただき、規格外の電源タップは使用しないでください。

予熱の実践:

鋳銅製ですが、高精度な実験を行う前に、設定温度に到達後10～15分間その温度を維持することをお勧めします。これにより、銅板全体の熱平衡が完全に保たれます。この状態でサンプルを配置することで、実験データの再現性を最大限に高めることができます。

で瀋陽科井HP-500V以前実験室用ホットプレート 工場を出荷する際には、厳格な絶縁テスト、接地テスト、真空密封テストを実施します。

この一見シンプルな真鍮製加熱プレートは、私たちの材料加工技術への理解を体現しています。ペロブスカイトの乾燥や金属の熱処理など、HP-500Vがお客様のニーズにお応えします。実験室用ホットプレート 実験台上で最も堅牢で、安定し、効率的なパートナーになります。