材料研究室の日常業務では、しばしば難しいジレンマに直面します。それは、超薄サンプル(結晶、半導体ウエハー、燃料電池基板など)を高温環境(300℃~500℃)で熱処理またはコーティングする必要があるものの、従来の機械的な固定方法では応力による損傷が簡単に発生してしまうという問題です。
バスケットボールで団結し、努力で新たな道を歩む | 第5回「科靖杯」バスケットボール大会が成功裏に終了。
実験室、研究施設、そして産業現場において、高温加熱装置は多くの熱処理や材料研究プロセスに不可欠です。最も一般的な高温炉の種類は、実験室用チューブ炉とボックス炉です。これらは構造、加熱方法、サンプルの適合性、温度制御、そして適用分野において明確な違いがあります。これらの違いを理解することで、特定の実験ニーズに適した炉を選択しやすくなります。