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シングルヘッド高真空マグネトロンプラズマスパッタリングコーター
VCTC の-600-1HD シングルヘッドマグネトロンスパッタリングコーターは、当社が新たに開発した高真空コーティング装置であり、単層または多層の強誘電体膜、導電膜、合金膜、半導体膜、セラミック膜、誘電体膜、光学膜、酸化膜、硬質膜、PTFE 膜などを作成するために使用されます。
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VCTC の-600-1HD シングルヘッド マグネトロン スパッタリング コーターには 1 つのターゲット ガンが装備されており、強磁性ターゲットまたは弱磁性ターゲットを選択できます。 -
デュアルヘッド高真空マグネトロンプラズマスパッタリングコーター
VCTC の-600-2HDデュアルヘッドマグネトロンスパッタリングコーターは、当社が新たに開発した高真空コーティング装置であり、単層または多層の強誘電体膜、導電膜、合金膜、半導体膜、セラミック膜、誘電体膜、光学膜、酸化膜、硬質膜、PTFE膜などを作成するために使用されます。 VCTC の-600-2HDデュアルヘッドマグネトロンスパッタリングコーターには、2つのターゲットガンと2つの電源が装備されており、1つは非導電性材料のスパッタコーティング用のRF電源、もう1つは導電性材料のスパッタコーティング用のDC電源です。
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3つのスパッタ源を備えたプラズマスパッタリングコーター
VCTC の-600-3HD 3ヘッドマグネトロンスパッタリングコーターは、当社が新たに開発したコーティング装置であり、単層または多層の強誘電体膜、導電膜、合金膜、半導体膜、セラミック膜、誘電体膜、光学膜、酸化膜、硬質膜、PTFE膜などを作成するために使用されます。 VCTC の-600-3HD 3ヘッドマグネトロンスパッタリングコーターには、3つのターゲットガン、非導電性材料のスパッタコーティング用の1つのRF電源、および導電性材料のスパッタコーティング用の2つのDC電源が装備されています。
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3 つのスパッタ源とグローブ ボックスを備えたプラズマ スパッタリング コーター
ベトナム-600-3HD 薄膜電池作製システムは、グローブボックス内で実験操作を行うことができ、単層または多層の強誘電体膜、導電膜、合金膜、半導体膜、セラミック膜、誘電体膜、光学膜、酸化膜、硬質膜、PTFE 膜などの作製に使用されます。このシステムには、さまざまなターゲット材料のスパッタコーティング用に 3 つのターゲットガンと 1 つの 無線周波数 電源が装備されています。無線周波数 電源は、転送スイッチによって任意のターゲットヘッドに接続できます。
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