シングルヘッド高真空マグネトロンプラズマスパッタリングコータ
ブランド Shenyang Kejing
製品の産地 瀋陽、中国
納入時間 22営業日
供給能力 50セット
VTC
-600-1HD シングルヘッドマグネトロンスパッタリングコータは、当社が新たに開発した高真空成膜装置で、単層または多層の強誘電体膜、導電膜、合金膜、半導体膜、セラミック膜、誘電体膜、光学膜、酸化膜、硬質膜、PTFE膜など
VTC
-600-1HD シングルヘッドマグネトロンスパッタリングコータにはターゲットガンが 1 台装備されており、強磁性ターゲットまたは弱磁性ターゲットを選択できます。
主な特徴
1. ターゲット ガンを 1 つ装備しており、非導電性材料のスパッタ コーティング用に 1 つの RF 電源を選択するか、導電性材料のスパッタ コーティング用に 1 つの 直流 電源を使用します。
2. 幅広い用途に応じて多様な薄膜を作製できます。
3. 小型で操作が簡単
T技術的パラメータ
商品名 | VTC
-600-1HD シングルヘッドマグネトロンスパッタリングコータ |
製品モデル | VTC -600-1HD |
設置条件 | 本装置は標高1000m以下、温度25℃±15℃、湿度55%Rh ±10%Rhの環境で使用してください。 1. 水:装置には自己循環水冷却器が装備されています(純水または脱イオン水で満たされます)。 2. 電気: AC220V 50Hz、適切な接地が必要です。 3. ガス:装置室内にアルゴンガス(純度99.99%以上)を充填する必要があり、アルゴンガスボンベ(Ø6mm二枚ヘルール継手付き)、減圧弁はお客様にてご用意ください。 4. 作業台:サイズ1500mm×600mm×700mm、耐荷重200kg以上 5. 換気装置: 必要 |
主要パラメータ (仕様) | 1.電源電圧:220V 50Hz 2. 電力: &それ ;1KW (真空ポンプを含まない) 3. チャンバーの内径:&注意 ;Ø300mm 4. 限界真空度:9.0×10-4Pa 5. サンプルステージの加熱温度:RT -500℃、精度±1℃(実際のニーズに応じて温度を上げることができます。) 6. ターゲットガンの数: 1 個 (その他の数量はオプション) 7.ターゲットガンの冷却方式:水冷 8. ターゲット材料のサイズ: Ø2インチ、厚さ0.1~5mm (ターゲット材料が異なるため厚さが異なります) 9. DCスパッタリング電力: 500W; RFスパッタリング電力:300W(ターゲット電源の種類はオプション:DC電源1台またはRF電源1台) 10. サンプルステージ:Ø140mm、お客様のご要望に応じてオプションのバイアス電圧機能を搭載し、より高品質なコーティングを実現します。 11. サンプルステージの速度: 1rpm-20rpm 内で調整可能 12. 作動ガス:Arおよびその他の不活性ガス 13. 吸気経路: マスフローメータは 2 つの吸気経路を制御します。1 つは 100SCCM、もう 1 つは 200SCCM です。 |
製品の寸法と重量 | 1.本体寸法:500mm×560mm×660mm 2. 外形寸法:1300mm×660mm×1200mm 3. 体重:160kg 4. 真空チャンバー寸法:φ300×300mm |
標準付属品 | 1. DC電源制御システム:1式(オプション) 2.RF電力制御システム:1セット(オプション) 3.ウォータークーラー: 1個 4.ポリエステルPUパイプ(Ø6mm):4m |
オプションのアクセサリ | 1. 金、インジウム、銀、プラチナ等の各種ターゲット材料 2. 膜厚モニターシステム 3. 分子ポンプ(ドイツから輸入) |
の保証付き
1 年間限定の永久サポート付き (不適切な保管条件による錆びた部品は除く)
ロジスティクス