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シングルヘッド高真空マグネトロンプラズマスパッタリングコータ

ブランド Shenyang Kejing

製品の産地 瀋陽、中国

納入時間 22営業日

供給能力 50セット

VTC
-600-1HD シングルヘッドマグネトロンスパッタリングコータは、当社が新たに開発した高真空成膜装置で、単層または多層の強誘電体膜、導電膜、合金膜、半導体膜、セラミック膜、誘電体膜、光学膜、酸化膜、硬質膜、PTFE膜など
VTC
-600-1HD シングルヘッドマグネトロンスパッタリングコータにはターゲットガンが 1 台装備されており、強磁性ターゲットまたは弱磁性ターゲットを選択できます。

シングルヘッド高真空マグネトロンプラズマスパッタリングコータ

主な特徴

1. ターゲット ガンを 1 つ装備しており、非導電性材料のスパッタ コーティング用に 1 つの RF 電源を選択するか、導電性材料のスパッタ コーティング用に 1 つの 直流 電源を使用します。

2. 幅広い用途に応じて多様な薄膜を作製できます。

3. 小型で操作が簡単



T技術的パラメータ

商品名

VTC -600-1HD シングルヘッドマグネトロンスパッタリングコータ

製品モデル

VTC -600-1HD

設置条件

本装置は標高1000m以下、温度25℃±15℃、湿度55%Rh ±10%Rhの環境で使用してください。

1. 水:装置には自己循環水冷却器が装備されています(純水または脱イオン水で満たされます)。

2. 電気: AC220V 50Hz、適切な接地が必要です。

3. ガス:装置室内にアルゴンガス(純度99.99%以上)を充填する必要があり、アルゴンガスボンベ(Ø6mm二枚ヘルール継手付き)、減圧弁はお客様にてご用意ください。

4. 作業台:サイズ1500mm×600mm×700mm、耐荷重200kg以上

5. 換気装置: 必要

主要パラメータ

(仕様)

1.電源電圧:220V 50Hz

2. 電力: &それ ;1KW (真空ポンプを含まない)

3. チャンバーの内径:&注意 ;Ø300mm

4. 限界真空度:9.0×10-4Pa

5. サンプルステージの加熱温度:RT -500℃、精度±1℃(実際のニーズに応じて温度を上げることができます。)

6. ターゲットガンの数: 1 個 (その他の数量はオプション)

7.ターゲットガンの冷却方式:水冷

8. ターゲット材料のサイズ: Ø2インチ、厚さ0.1~5mm (ターゲット材料が異なるため厚さが異なります)

9. DCスパッタリング電力: 500W; RFスパッタリング電力:300W(ターゲット電源の種類はオプション:DC電源1台またはRF電源1台)

10. サンプルステージ:Ø140mm、お客様のご要望に応じてオプションのバイアス電圧機能を搭載し、より高品質なコーティングを実現します。

11. サンプルステージの速度: 1rpm-20rpm 内で調整可能

12. 作動ガス:Arおよびその他の不活性ガス

13. 吸気経路: マスフローメータは 2 つの吸気経路を制御します。1 つは 100SCCM、もう 1 つは 200SCCM です。

製品の寸法と重量

1.本体寸法:500mm×560mm×660mm

2. 外形寸法:1300mm×660mm×1200mm

3. 体重:160kg

4. 真空チャンバー寸法:φ300×300mm

標準付属品

1. DC電源制御システム:1式(オプション)

2.RF電力制御システム:1セット(オプション)

3.ウォータークーラー: 1個

4.ポリエステルPUパイプ(Ø6mm):4m

オプションのアクセサリ

1. 金、インジウム、銀、プラチナ等の各種ターゲット材料

2. 膜厚モニターシステム

3. 分子ポンプ(ドイツから輸入)



保証付き    

1 年間限定の永久サポート付き (不適切な保管条件による錆びた部品は除く)



ロジスティクス

Plasma Sputtering Coater


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個人情報保護方針

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