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シングルヘッド高真空マグネトロンプラズマスパッタリングコーター
VCTC の-600-1HD シングルヘッドマグネトロンスパッタリングコーターは、当社が新たに開発した高真空コーティング装置であり、単層または多層の強誘電体膜、導電膜、合金膜、半導体膜、セラミック膜、誘電体膜、光学膜、酸化膜、硬質膜、PTFE 膜などを作成するために使用されます。 VCTC の-600-1HD シングルヘッド マグネトロン スパッタリング コーターには 1 つのターゲット ガンが装備されており、強磁性ターゲットまたは弱磁性ターゲットを選択できます。
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デュアルヘッド高真空マグネトロンプラズマスパッタリングコーター
VCTC の-600-2HDデュアルヘッドマグネトロンスパッタリングコーターは、当社が新たに開発した高真空コーティング装置であり、単層または多層の強誘電体膜、導電膜、合金膜、半導体膜、セラミック膜、誘電体膜、光学膜、酸化膜、硬質膜、PTFE膜などを作成するために使用されます。 VCTC の-600-2HDデュアルヘッドマグネトロンスパッタリングコーターには、2つのターゲットガンと2つの電源が装備されており、1つは非導電性材料のスパッタコーティング用のRF電源、もう1つは導電性材料のスパッタコーティング用のDC電源です。
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3つのスパッタ源を備えたプラズマスパッタリングコーター
VCTC の-600-3HD 3ヘッドマグネトロンスパッタリングコーターは、当社が新たに開発したコーティング装置であり、単層または多層の強誘電体膜、導電膜、合金膜、半導体膜、セラミック膜、誘電体膜、光学膜、酸化膜、硬質膜、PTFE膜などを作成するために使用されます。 VCTC の-600-3HD 3ヘッドマグネトロンスパッタリングコーターには、3つのターゲットガン、非導電性材料のスパッタコーティング用の1つのRF電源、および導電性材料のスパッタコーティング用の2つのDC電源が装備されています。
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3 つのスパッタ源とグローブ ボックスを備えたプラズマ スパッタリング コーター
ベトナム-600-3HD 薄膜電池作製システムは、グローブボックス内で実験操作を行うことができ、単層または多層の強誘電体膜、導電膜、合金膜、半導体膜、セラミック膜、誘電体膜、光学膜、酸化膜、硬質膜、PTFE 膜などの作製に使用されます。このシステムには、さまざまなターゲット材料のスパッタコーティング用に 3 つのターゲットガンと 1 つの 無線周波数 電源が装備されています。無線周波数 電源は、転送スイッチによって任意のターゲットヘッドに接続できます。
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プラズマ3ターゲットスパッタリング装置
1. 3 ターゲット プラズマ スパッタリング コーターには真空計とスパッタリング電流計が装備されており、いつでも装置の動作を監視して、安定した信頼性の高いコーティング効果を実現できます。 2. 3 ターゲット プラズマ スパッタリング コーターは、真空チャンバーの圧力、イオン化電流を調整し、スパッタリング電流コントローラーとマイクロ真空エアバルブを介して適切なイオン化ガスを選択して、コーティング効果を最適化します。 3. 特別に設計されたベルジャーエッジのゴムシールにより、長期使用後もガラスベルジャーが割れることがなく、3ターゲットプラズマスパッタリングコーターの耐久性が向上します。
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シングルターゲットプラズマスパッタリングコーティング装置
1. デスクトッププラズマスパッタリングコーターのセラミックシール高電圧電極ジョイントは、一般的に使用されているゴムシールよりも耐久性に優れています。 2. デスクトッププラズマスパッタリングコーターは、電界中のガスのイオン化特性に応じて、大容量のスパッタリング真空チャンバーと対応する面積のスパッタリングターゲットを使用して、スパッタリングコーティングをより均一かつ純粋にします。 3. デスクトッププラズマスパッタリングコーターはCE認証に合格しています。
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