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デュアルヘッド高真空マグネトロンプラズマスパッタリングコーター

ブランド Shenyang Kejing

製品の産地 瀋陽、中国

納入時間 22営業日

供給能力 50セット

VCTC の-600-2HDデュアルヘッドマグネトロンスパッタリングコーターは、当社が新たに開発した高真空コーティング装置であり、単層または多層の強誘電体膜、導電膜、合金膜、半導体膜、セラミック膜、誘電体膜、光学膜、酸化膜、硬質膜、PTFE膜などを作成するために使用されます。 VCTC の-600-2HDデュアルヘッドマグネトロンスパッタリングコーターには、2つのターゲットガンと2つの電源が装備されており、1つは非導電性材料のスパッタコーティング用のRF電源、もう1つは導電性材料のスパッタコーティング用のDC電源です。

デュアルヘッド高真空マグネトロンプラズマスパッタリングコーター


主な特徴

1. ターゲットガンを2台装備しており、1台のRF電源は非導電性材料のスパッタコーティングに使用され、もう1台のDC電源は導電性材料のスパッタコーティングに使用されます。

2. 幅広い用途に対応した多種多様な薄膜を作製できます。

3. 小型で操作が簡単



T技術的パラメータ

商品名

VCTC の-600-2HD デュアルヘッドマグネトロンスパッタリングコーター

製品モデル

VCTC の-600-2HD

設置条件

この装置は、高度1000m以下、温度25℃±15℃、湿度55%右±10%Rhの範囲内で使用する必要があります。

1. 水: 装置には自己循環式水冷却装置(純水または脱イオン水で満たされる)が装備されています。

2. 電気: AC220V 50Hz、良好な接地が必要

3. ガス:装置室内にアルゴンガス(純度99.99%以上)を充填する必要があり、アルゴンガスボンベ(Ø6mmダブルフェルールジョイント付き)および減圧弁はユーザーが用意する必要があります。

4. 作業台:サイズ1500mm×600mm×700mm、耐荷重200kg以上

5. 換気装置:必要

主なパラメータ

(仕様)

1.電源電圧:220V 50Hz

2. 電力: 900W

3. チャンバーの内径:&注意;Ø300mm

4. 真空度の限界:9.0×10-4Pa

5. サンプルステージの加熱温度:RT-500℃、精度±1℃(実際のニーズに応じて温度を上げることができます。)

6. ターゲットガンの数:2個(その他の数量はオプション)

7. ターゲットガンの冷却方法:水冷

8. ターゲット材料のサイズ:Ø2″、厚さ0.1~5mm(ターゲット材料によって厚さは異なります)

9. 直流 スパッタリング電力: 500W、無線周波数 スパッタリング電力: 300W (ターゲット電源のタイプはオプションで、2 つの 直流 電源または 2 つの 無線周波数 電源、または 1 つの 直流 電源と 1 つの 無線周波数 電源を選択できます。)

10. サンプルステージ:Ø140mm、オプションのバイアス電圧機能は、お客様の要件に応じてインストールでき、より高品質のコーティングを実現します。

11.サンプルステージの速度:1rpm〜20rpmの範囲で調整可能

12. 作動ガス: Arおよびその他の不活性ガス

13. 吸気経路:質量流量計は 2 つの吸気経路を制御します。1 つは 100SCCM、もう 1 つは 200SCCM です。

製品の寸法と重量

1. 本体寸法:500mm×560mm×660mm

2. 全体寸法:1300mm×660mm×1200mm

3. 真空チャンバー寸法:φ300×300mm

4. 重量: 160kg

plasma sputtering coater

標準付属品

1. DC電源制御システム:1セット

2. RF電力制御システム:1セット

3. 膜厚モニターシステム:1セット

4. 分子ポンプ(ドイツから輸入):1個

5. ウォータークーラー:1個

6.ポリエステルPUパイプ(Ø6mm):4m

オプションのアクセサリ

金、インジウム、銀、プラチナなど様々なターゲット材質。



保証

&注意;&注意;&注意;&注意;1 年間限定の永久サポート(不適切な保管条件による錆びた部品は除く)



ロジスティクス

Magnetron Plasma Sputtering Coater


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個人情報保護方針

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