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3つのスパッタ源を備えたプラズマスパッタリングコーター

VCTC の-600-3HD 3ヘッドマグネトロンスパッタリングコーターは、当社が新たに開発したコーティング装置であり、単層または多層の強誘電体膜、導電膜、合金膜、半導体膜、セラミック膜、誘電体膜、光学膜、酸化膜、硬質膜、PTFE膜などを作成するために使用されます。 VCTC の-600-3HD 3ヘッドマグネトロンスパッタリングコーターには、3つのターゲットガン、非導電性材料のスパッタコーティング用の1つのRF電源、および導電性材料のスパッタコーティング用の2つのDC電源が装備されています。

  • Shenyang Kejing
  • 瀋陽、中国
  • 22営業日
  • 50セット
  • 情報

主な特徴

1. 3 つのターゲットガンを搭載しており、1 つの 無線周波数 電源は非導電性材料のスパッタコーティングに使用され、2 つの 直流 電源は導電性材料のスパッタコーティングに使用されます (ターゲットガンは顧客のニーズに応じて交換可能です)。

2. 幅広い用途に対応した多種多様な薄膜を作製できます。

3. 小型で操作が簡単

4. 機械全体のモジュール設計。真空チャンバー、真空ポンプグループ、制御電源の個別/分割型設計。ユーザーの実際のニーズに応じて調整できます。

5. 電源は、ユーザーの実際のニーズに応じて選択できます。1 つの電源で複数のターゲット ガンを制御することも、複数の電源で 1 つのターゲット ガンを制御することもできます。



T技術的パラメータ

商品名

VCTC の-600-3HD 3ヘッドマグネトロンスパッタリングコーター

製品モデル

VCTC の-600-3HD

設置条件

この装置は、標高1000m以下、温度25℃±15℃、湿度55%右±10%Rhの範囲内で使用する必要があります。

1. 水: 装置には自己循環式水冷却装置(純水または脱イオン水で満たされる)が装備されています。

2. 電気: AC220V 50Hz、良好な接地が必要

3. ガス:装置室内にアルゴンガス(純度99.99%以上)を充填する必要があり、アルゴンガスボンベ(Ø6mmダブルフェルールジョイント付き)および減圧弁はユーザーが用意する必要があります。

4. 作業台:サイズ1500mm×600mm×700mm、耐荷重200kg以上

5. 換気装置:必要

主なパラメータ

(仕様)

1.電源電圧:220V 50Hz

2. 電力: <2.5kW

3. 真空度の限界:E-6mbar(弊社装置使用時はE-5mbarまで到達可能)

4.加熱温度:RT-500℃、精度±1℃(実際のニーズに応じて温度を上げることができます。)

5. 標的銃の数:3個

6. ターゲットガンの冷却方法:水冷

7. ターゲット材料のサイズ:Ø2″、厚さ0.1~5mm(ターゲット材料によって厚さは異なります)

8. DCスパッタリング電力:500W(オプション)

9. RFスパッタリング電力:300W/500W(オプション)

10. サンプルステージ:Ø140mm、オプションのバイアス電圧機能は、お客様の要件に応じてインストールでき、より高品質のコーティングを実現します。

11. サンプルステージの速度: 1rpm~20rpmの範囲で調整可能

12.作動ガス: アル、N2およびその他の不活性ガス

13. 吸気経路:質量流量計は 2 つの吸気経路を制御します。1 つは 100SCCM、もう 1 つは 200SCCM です。

製品の寸法と重量

本体寸法:500mm×560mm×660mm

外形寸法:1300mm×660mm×1200mm

体重: 160kg

Magnetron Plasma Sputtering Coater

標準付属品

1. DC電源制御システム:2セット

2. RF電力制御システム:1セット

3. 膜厚モニターシステム:1セット

4. 分子ポンプ(ドイツから輸入):1個

5. ウォータークーラー:1個

6.ポリエステルPUパイプ(Ø6mm):4m

オプションのアクセサリ

1. 金、インジウム、銀、プラチナなど様々なターゲット材料。

2. マスク

3. 振動サンプルステージ



保証

&注意;&注意;&注意;&注意;1 年間限定、生涯サポート付き (不適切な保管条件による錆びた部品は除く)



ロジスティクス

compact Plasma sputtering coater


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