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3つのスパッタ源とグローブボックスを備えたプラズマスパッタリングコーター

VGB-600-3HD薄膜電池作製システムは、グローブボックス内で実験操作を行うことができ、単層または多層の強誘電体膜、導電膜、合金膜、半導体膜、セラミック膜、誘電体膜、光学膜、酸化膜、硬質膜、PTFE膜などの作製に使用されます。本システムは、3つのターゲットガンと1つのRF電源を備えており、様々なターゲット材料のスパッタコーティングが可能です。RF電源は、トランスファースイッチを介して任意のターゲットヘッドに接続できます。

  • Shenyang Kejing
  • 瀋陽、中国
  • 44営業日
  • 50セット
  • 情報

製品紹介

そのVGB-600-3HD 薄膜電池成膜システムグローブボックス内での使用を想定して設計されており、強誘電体膜、導電膜、合金膜、半導体膜、セラミック膜、誘電体膜、光学膜、酸化膜、ハードコーティング、PTFE膜などの単層または多層の薄膜を作製できます。

このシステムにはスパッタリングガン3個、1つRF電源転送スイッチを介して 3 つのターゲットのいずれかに切り替えることができるため、異なるターゲット材料を柔軟にスパッタリングできます。

同様の機器と比較して、VGB-600-3HDはより幅広いアプリケーションの汎用性コンパクトな構造、 そして簡単な操作、それは実験室での薄膜作製に最適な機器特に以下の用途に適しています薄膜電池、固体電解質、OLED材料の研究

従来のマグネトロンスパッタリングシステムとは異なり、このモデルはリチウムおよびリチウムベースのターゲット材料、それは好ましい解決策となる新エネルギー研究所における薄膜コーティング実験


主な特徴

1. 本システムは、様々なターゲット材料のスパッタコーティングを可能にするために、3台のターゲットガンと1台のRF電源を備えています。RF電源は、切替スイッチを介して任意のターゲットヘッドに接続できます。(ターゲットガンはお客様のニーズに応じて交換可能です。)

2. 幅広い用途に合わせて多様な薄膜を作製できます。

3. 小型で操作が簡単

4. 機械全体のモジュール設計。真空チャンバー、真空ポンプグループ、制御電源の分離型/分割型設計。ユーザーの実際のニーズに応じて調整できます。(オプション)

5. 電源はユーザーの実際のニーズに合わせて選択できます。1つの電源で複数のターゲットガンを制御することも、複数の電源で1つのターゲットガンを制御することもできます。

6. 実験操作はグローブボックス内で行うことができ、コーティング実験では酸化されやすい様々なターゲットを交換することができます。


T技術的パラメータ

製品名

VGB-600-3HD 薄膜電池作製システム

製品モデル

VGB-600-3HD

主要なパラメータ

(仕様)

3ヘッドマグネトロンスパッタリング部:

1.電源電圧:220V 50Hz

2. 総電力:2.5kW

3. 真空度の限界:E-6mbar(弊社の機械式ポンプ設備と併用することでE-3mbarまで到達可能)

4.加熱温度:RT-500℃、精度±1℃(実際のニーズに応じて温度を上げることができます。)

5. 標的銃の数:3個

6. ターゲットガンの冷却方法:水冷

7. ターゲット材料のサイズ:Ø2″、厚さ0.1~5mm(ターゲット材料によって厚さは異なります)

8. スパッタリング電源:300W(無線周波数)/500W(DC)

9. サンプルステージ:Ø140mm

10.サンプルステージの速度:1rpm~20rpmの範囲で調整可能

11. 作動ガス: アル、N2およびその他の不活性ガス

12. 吸気経路:質量流量計は 2 つの吸気経路を制御します。1 つは 100SCCM、もう 1 つは 200SCCM です。


グローブボックス部分:

1.電源:単相AC110V-220V 50Hz/60Hz

2. シェル材質:304ステンレス鋼

3. グローブボックス室:1220mm×760mm×900mm

4. 前室:前室は2つあり、大きい前室はØ360mm×600mm、小さい前室はØ150mm×300mmです。

5. チャンバー環境:水分含有量<1ppm(20℃、1atm)、酸素含有量<1ppm(20℃、1atm)

6.作動ガス:N2、アル、Heおよびその他の不活性ガス

7.制御ガス:圧縮空気または不活性ガス

8. 還元ガス:作動ガスとHの混合物2 (浄化システムが水分を除去する機能のみを有する場合、還元ガスは作動ガスと同じである。)

9. ガス精製システム:

ドイツBASFの脱酸素剤、アメリカUOPの高効率吸水剤、浄化システムの再生プロセスの自動制御、自動水と酸素の除去機能、長期にわたってガスの純度(水<1ppm、酸素<1ppmのレベル)を継続的に維持することができます。

10. 圧力制御システム:チャンバー内の空気圧はPLCタッチスクリーンで自動的に制御でき、制御精度は±1Paです。また、フットスイッチで手動で制御することもできます。

11.濾過システム:入口と出口にフィルターが設置されており、濾過精度は0.3μmです。

12.制御システム:SIEMENSカラータッチスクリーン(6インチ)、PLC制御システム、中国語と英語のバイリンガルスイッチ

    * 水質プローブはアメリカのGEブランドを採用し、0〜1000ppmのタッチスクリーンディスプレイと0.1ppmの精度を備えています。

    * 酸素トランスミッターはアメリカのAIIブランドを採用し、0〜1000ppmのタッチスクリーンディスプレイと0.1ppmの精度を備えています。

    * 圧力センサーはアメリカのsetraブランドを採用し、-2500〜2500Paのタッチスクリーンディスプレイと±1Paの精度を備えています。

13. 真空ポンプ:英国EDWARDSブランド、排気速度8.4m³/h-12m3/時

14. 手袋:アメリカ製NORTHブランド(ブチル合成ゴム)

15.照明装置:フィリップス社製(蛍光灯)

製品寸法

3ヘッドマグネトロンスパッタ部:950mm×460mm×810mm

グローブボックス部:2300mm×1500mm×1900mm



保証

    1 年間限定の永久サポート(不適切な保管条件による錆びた部品は除く)



ロジスティクス

Plasma Sputtering Coater


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