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時間の経過、設備の綿密な研究、技術エンジニアチームのたゆまぬ努力の結果、当社（瀋陽 ケジン）はさまざまなチューブ炉の製造に成功しました。

SYJ-210手動ダイヤモンドブレードソーは市場の需要に合わせて設計されており、大学や研究機関で広く使用されています。金属、セラミック、ガラス、岩石サンプル、鉱物サンプル、コンクリート、有機材料の高速切断に適しています。

脱ガム：VTC-200-4Pスプレースピンコーターを用いた湿式脱ガムプロセスでは、有機溶剤をパターン表面のフォトレジスト膜に滴下することで、フォトレジスト膜を溶解・除去し、きれいなパターンを残します。コーティングに使用可能なコーティング装置には、VTC-100PA真空スピンコーター、VTC-100PA-Ⅰ上蓋加熱真空スピンコーター、VTC-100真空スピンコーター、VTC-200真空スピンコーター、VTC-200PV真空ロータリーコーティング機、VTC-200-4Pスプレーロータリーコーティング機、VTC-100PA-UV紫外線スピンコーターなどがあります。具体的なプロセスに応じて、異なるスピンコーターを選択できます。

ラボ用チラーは、実験装置やプロセスの温度を一定に保つために特別に設計された冷却システムです。動作原理は、冷却液（水、エチレングリコール、または特定の冷媒）を閉ループシステム内で循環させ、装置やサンプルから熱を除去することです。このプロセスにより、温度が安定し、必要な範囲内に保たれることが保証されます。これは、多くの実験アプリケーションの精度と信頼性にとって非常に重要です。

現代産業の急速な発展に伴い、製品の重要性は徐々に高まっています。この装置は、製薬、エレクトロニクス、材料科学などの業界でも広く利用されています。これらの業界では、敏感な材料の乾燥と硬化に対する高い要求も高まっています。当社が製造する実験室用乾燥炉は、これらの業界の高い要求に完全に応え、お客様の高性能な生産や実験の実現を支援します。

スパッタリング技術の出現と応用は多くの段階を経てきました。30年以上の開発を経て、マグネトロンスパッタリング技術は光学、電気、その他の機能薄膜にとって欠かせない方法に発展しました。あなたはそれについてどれくらい知っていますか？

基本的なマグネトロンスパッタリングをベースに、高真空と高温の成長環境を導入し、プラズマ技術を組み合わせて反応堆積の反応効率を向上させ、マグネトロンスパッタリングフィルムエピタキシーを実現します。この高真空条件下で製造されたフィルムは、格子配向がより良好で、結晶特性がより優れています。超伝導量子、強誘電体材料、圧電材料、熱電材料などの分野で幅広い用途があります。高真空状態は不純物の影響を軽減し、堆積プロセス中にスパッタ粒子が他のガスと悪影響を及ぼさないようにします。