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スパッタリング技術の出現と応用は多くの段階を経てきました。30年以上の開発を経て、マグネトロンスパッタリング技術は光学、電気、その他の機能薄膜にとって欠かせない方法に発展しました。あなたはそれについてどれくらい知っていますか？

基本的なマグネトロンスパッタリングをベースに、高真空と高温の成長環境を導入し、プラズマ技術を組み合わせて反応堆積の反応効率を向上させ、マグネトロンスパッタリングフィルムエピタキシーを実現します。この高真空条件下で製造されたフィルムは、格子配向がより良好で、結晶特性がより優れています。超伝導量子、強誘電体材料、圧電材料、熱電材料などの分野で幅広い用途があります。高真空状態は不純物の影響を軽減し、堆積プロセス中にスパッタ粒子が他のガスと悪影響を及ぼさないようにします。

猿 2025は、世界トップクラスの企業や科学研究機関が一堂に会する、アジア最大かつ最も影響力のある先端材料およびエネルギー技術展示会の一つです。展示会では、当社のブースに、有名な大学、科学研究機関、企業の専門家を含む数百人の来場者が訪れ、当社は展示会の注目の的の一つとなりました。

薄膜が不均一だと実験データの偏差につながり、研究結果の精度に影響を及ぼします。 従来のフィルムコーティング技術は、操作技術、機器の精度、環境要因の影響を受けやすく、広い面積にわたって均一なコーティングを実現することが困難です。

新世代の炎支援噴霧熱分解装置は、高効率、正確性、精密性という独自の利点を備えています。高レベルのコーティング堆積技術は、さまざまな分野にとってより良い選択肢を提供します。 高効率と精度の融合： この製品は、高度なスプレー熱分解技術を採用し、迅速な分解と堆積を実現しており、この利点により、コーティングの均一性と接着性が大幅に向上し、さまざまなアプリケーションシナリオのさまざまなニーズを満たすことができます。

新エネルギー、フレキシブルエレクトロニクス、バイオメディカルなどの分野はますます急速に発展しており、中核プロセスの一つとして、精密コーティング技術は新たな課題に直面しています。 コーティング技術では、設備の精度、安定性、材料の適応性に対する要求が高まっています。従来の設備は、均一性と適応性の面で依然として多くの問題を抱えており、科学研究機関や企業のニーズを満たすことが困難です。

業界の状況: 市場はコーティング機械の高精度、高効率に対する要求を徐々に高めており、小型化、高効率、インテリジェント化に向けて徐々に発展しており、電子産業や新エネルギー分野での応用も増加しています。

多様なニーズに対応可能: コーティング機は小型で、実験室などの現場に適しています。また、さまざまな材料に適しています。 無段変速コーティング機の日常保管では、直射日光や高温多湿の場所を避け、乾燥していて、ほこりがなく、換気の良い環境にしてください。

3ターゲットプラズマスパッタリングコーターは、材料科学、物理学研究などの分野で広く使用されているハイテクデバイスです。ユーザーがこのデバイスを正しく効果的に使用できるように、詳細な使用方法を以下に示します。

現代の材料科学と顕微鏡分析の分野では、プラズマスパッタリング技術が薄膜堆積に広く使用されています。当社のシングルターゲットプラズマスパッタリングコーティングマシンは、実用的に効率的かつ正確です。また、その高い性能によりオペレーターの操作を簡素化し、業界の基礎を築きました。