実験室用高温焼結炉とは何ですか？どこで使用されますか？

ラボ用高温焼結炉とは何ですか?
ラボ用高温焼結炉は、ボックス型炉のオープンチャンバーバッチ処理の利点と、チューブ型炉の雰囲気制御と密閉チューブ機能を組み合わせた、多用途で多機能な工業用加熱装置です。密閉チューブチャンバーを炉内に組み込むか、外部のチューブコンポーネントをメインのボックス型チャンバーに接続します。

瀋陽科晶のラボ用高温焼結炉は、従来の箱型炉と同様に、複数バッチのサンプルを大気中で加熱処理できるだけでなく、密閉チューブを通して精密な雰囲気制御も可能で、従来の管状炉と同様に、不活性ガス、還元ガス、酸化ガス、その他の特定ガスを導入できます。この設計は、従来の炉が抱える「バッチ処理能力は大きいが雰囲気制御が不十分」「雰囲気制御は優れているが処理量が限られる」というジレンマを解消します。さらに、当社の高温電気炉はコンパクトで軽量であるため、グローブボックスやドラフト内に容易に設置でき、スペースが限られたラボや小規模なパイロット工場に最適です。専用の床面積は必要ありません。

実験室用高温焼結炉はどこに適用できますか?
実験室用高温焼結炉 加熱雰囲気の制御、バッチ処理能力、均一な温度分布が求められる材料調製や実験のシナリオにおいて、広く利用されています。具体的には、金属材料の焼鈍・浸炭、セラミックスの焼結、半導体材料のドーピング、大学や研究機関における材料合成実験などです。これらの用途では、精密な雰囲気制御と優れた温度均一性が求められます。

当社の高温焼結炉は、φ50×230mmの片端石英管、シリコンOリング付きステンレス製真空フランジ、2つのステンレス製遮断弁、機械式圧力計を備えています。ガス入口はφ6.35mmのフェルール継手、出口はφ8mmのバーブコネクタです。機械式ポンプの補助により、最大10⁻² Torrの真空度を実現できます。この真空環境は、金属の焼鈍や浸炭処理中の不純物ガスによる干渉を防ぎ、セラミック焼結中の酸化を抑制します。また、半導体ドーピングの雰囲気要件を満たすために不活性ガスや特定の反応ガスを導入できるため、環境純度に敏感なプロセスにおいて安定した熱処理を実現します。

瀋陽科境店実験室用高温焼結炉 最高動作温度は1100℃（通常動作温度は1000℃）です。インテリジェント温度コントローラとPIDベースの30段階プログラマブル温度制御システムを搭載し、K型熱電対と組み合わせることで、高精度な温度制御を実現します。130mm（長さ）×100mm（幅）×100mm（高さ）の加熱ゾーンは、学術研究における小規模な複数グループの材料合成や、産業現場での小型金属またはセラミックサンプルのパイロットスケール処理といったバッチ処理のニーズに対応します。加熱雰囲気、温度精度、処理能力がすべて重要な要件となる、ラボでの研究開発や小ロット生産のシナリオに特に適しています。

総生産面積約14,000平方メートルを誇る瀋陽科晶は、専門の研究開発チームを擁し、設計、製造、試験、梱包、アフターサービスまで一貫したワークフローを整備しています。実験室用高温焼結炉 実験と生産の効率が向上します。