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真空実験室用ホットプレートの紹介

材料研究室の日常業務では、しばしば難しいジレンマに直面します。それは、超薄サンプル(結晶、半導体ウエハー、燃料電池基板など)を高温環境(300℃~500℃)で熱処理またはコーティングする必要があるものの、従来の機械的な固定方法では応力による損傷が簡単に発生してしまうという問題です。

2026/01/30
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