実験室用ワックスフリー研磨ディスク

1. 当社の研磨ディスクは、30〜45℃の研磨温度と150〜250g/cm²の研磨圧力で使用でき、安定した性能を発揮します。
2. 当社の研磨ディスクは、さまざまな加工ニーズに合わせてさまざまな方法でカスタマイズできます。
3.研磨ディスクは、さまざまな材料に対して安定した吸着力を発揮します。

ブランド: Shenyang Kejing
製品の産地: 瀋陽、中国
納入時間: 10営業日

情報

ウェーハ研磨プレートの紹介：

ウェーハ研磨プレートは、ガラス繊維プレートと研磨パッドの組み合わせでサンプルを吸着・固定します。パラフィンボンディングは不要です。切断テンプレートのサイズはカスタマイズ可能です。ウェーハ研磨プレートは、シリコンウェーハ、サファイアウェーハ、ニオブ酸リチウムウェーハ、光学結晶ウェーハ、レーザー結晶ウェーハ、水晶ウェーハ、金属材料などの研削・研磨時の保護、吸着・固定に適しています。

Polishing disc

ウェーハ研磨プレートの利点：

1. 当店の商品はすべて新品・未使用ですので、安心してご使用いただけます。

2. その後のご利用中、お客様はいつでも弊社とリモートミーティングを行うことができ、問題の迅速な解決をお手伝いいたします。

3. 同時に、当社は豊富な輸出経験を有しており、当社が提携する物流も国際的に非常に有名です。

吸着サンプル研磨ディスクの技術的パラメータ：

製品名	吸着サンプル研磨ディスク
技術的パラメータ	1. グラスファイバーボードの直径	≤500mm
	2. グラスファイバーボードの厚さ	0.12～2mm
	3.研磨温度	30～45℃
	4.研磨圧力	150～250g/cm²
	5. サイズ:	顧客の要件に応じてカスタマイズ可能

私たちについて：

当社は先進的な生産設備と厳格な品質管理システムを備え、すべての製品が国際基準を満たしています。研究開発チームは革新を続け、市場の需要とお客様からのフィードバックに基づいて製品設計を改善し、より正確で効率的なソリューションを提供することに尽力しています。長年の業界経験と技術の蓄積により、当社は業界で高い評価を確立し、多くのお客様から好評をいただいています。

Wafer Polishing Plate