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実験室用ワックスフリー研磨ディスク

1. 当社の研磨ディスクは、30~45℃の研磨温度と150~250g/cm²の研磨圧力で使用でき、安定した性能を発揮します。
2. 当社の研磨ディスクは、さまざまな加工ニーズに合わせて、多様な方法でカスタマイズできます。
3. 研磨ディスクは、さまざまな材料に対して安定した吸着力を発揮します。

  • Shenyang Kejing
  • 中国瀋陽市
  • 10営業日
  • 50セット
  • 情報

ウェーハ研磨板の紹介:

ウェーハ研磨プレートは、ガラス繊維プレートと研磨パッドを組み合わせて試料を吸着・固定します。パラフィン接着剤は不要です。切断テンプレートのサイズはカスタマイズ可能です。ウェーハ研磨プレートは、シリコンウェーハ、サファイアウェーハ、ニオブ酸リチウムウェーハ、光学結晶ウェーハ、レーザー結晶ウェーハ、水晶結晶ウェーハ、金属材料などの研削・研磨時の保護、吸着、固定に適しています。

polishing disc

吸着試料研磨ディスクの技術的パラメータ:

製品名吸着サンプル研磨ディスク
技術仕様1. グラスファイバーボードの直径 ≤500mm
2. グラスファイバーボードの厚さ 0.12~2mm
3. 研磨温度 30~45℃
4.研磨圧力150~250g/cm²
5. サイズ: 顧客の要望に応じてカスタマイズ可能


ワックスフリー研磨パッドの利点:

1. ワックスフリーの研磨パッドは、物理吸着を利用して試料を固定するため、従来のパラフィンワックスによる接着が全く不要になります。


これにより、化学試薬の使用量を削減できるだけでなく、パラフィンワックスの洗浄に伴う環境汚染や溶剤の損失も回避できる。


2. ワックス塗布、ワックス除去、面倒な洗浄工程が不要になったことで実験効率が向上し、作業時間が短縮されました。


3. グラスファイバーボードと研磨パッドの組み合わせの弾性と吸着特性を利用することで、研削および研磨中にサンプルの端を効果的に保護し、硬い接触による欠けや傷を軽減します。


4. ワックスフリーの研磨パッドは幅広い用途に対応し、高度なカスタマイズが可能で、シリコンウェハー、サファイア、ニオブ酸リチウム、各種光学/レーザー結晶、石英、金属材料に適しています。テンプレートのサイズと開口部の形状は、サンプルの形状(円形、正方形、不規則な形状)に合わせてカスタマイズできます。


5. ワックスフリーの研磨パッドは、最大直径500mmまで対応し、厚さは0.12~2mmに精密に制御され、30~45℃の一般的な研磨温度で良好な吸着安定性を維持します。


瀋陽科京の利点:

1. 当社の製品はすべて新品未使用ですので、安心してお使いいただけます。

2. その後の利用中、お客様はいつでも当社とリモート会議を行うことができ、当社はお客様の問題を迅速に解決するお手伝いをいたします。

3. 同時に、当社は豊富な輸出経験を有しており、提携している物流会社も国際的に非常に有名です。


私たちについて:

当社は高度な生産設備と厳格な品質管理システムを備え、すべての製品が国際基準を満たしています。研究開発チームは、市場のニーズと顧客からのフィードバックに基づき、製品設計の改善に継続的に取り組み、より正確で効率的なソリューションを提供することに尽力しています。長年の業界経験と技術蓄積により、業界内で高い評価を確立し、多くのお客様から好意的なご意見をいただいております。


wafer polishing plate


adsorption sample polishing disc


よくある質問: 

Q1:ワックスフリー研磨パッドにはアフターサービスがありますか?

A:はい、弊社製品には保証が付いています。製品到着後に破損等が発生した場合は、弊社の営業担当までご連絡ください。

Q2:もし購入を検討している場合、他におすすめの研削・研磨装置はありますか?

A:もちろんです。適切な研削装置をご提案するためには、お客様の具体的なニーズや実験材料を把握する必要があります。

Q3:私は自分の研磨機を持っているのですが、それに合う研磨パッドを購入したいと思っています。何かおすすめはありますか?

A:はい、現在お使いの機器の名称と詳細をお知らせいただければ、適切な研磨パッドの種類や形状をご提案いたします。

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