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ベーシックヒーティングプレート
ケニア ベーシック加熱プレートは、加熱中に特性が変化しない、つまり加熱の影響を受けない材料に適しています。 ケニア ベーシック加熱プレートは、主に実験室で化学分析、物理的測定、および熱処理中のベーキング、乾燥、その他の温度テストに使用されます。 機械の加熱エリアは鋳鋼製で、表面は防錆技術で処理されています。 電源に接続すると、加熱プレートは連続的に動作し、限界温度は最大 400 °C です。 加熱プレートは、完全に密閉された加熱エリアを採用しており、裸火はありません。 環境への影響が少なく、安全で信頼性があります。 加熱速度が速く、加熱温度の限界が高いです。 電子温度調節装置を採用し、無段階温度調節と二相電源の機能を備えています。
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単結晶配向装置
DX-100 X線単結晶配向機は、光学、機械、電気が一体となったハイテク精密機器で、天然結晶や人工結晶の結晶面を素早く判定できます。各種の切断、研削などの加工設備と併用でき、結晶部品の精密加工・製造に欠かせない機器です。X線単結晶配向機は、X線回折の原理を利用して、結晶、シリコン、ゲルマニウム単結晶、ニオブ酸リチウム、タンタル酸リチウム、バナジウム酸イットリウム、レーザー結晶、光ファイバー通信結晶などの単結晶材料を配向します。操作が簡単で、科学研究機関や工場でさまざまな単結晶材料を扱うのに理想的な設備です。DX-100 X線単結晶配向機には、インゴット、ロッド、ウェーハ端面の配向に対応するために、大きなパレットを備えた単一の作業台が装備されています。上部と下部に分かれています。小型で卓上測定が容易であり、単結晶の配向測定に対応し、結晶の品質に応じて判断することができます。
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金属用ウェーハパンチャー
PM200 金属ウェーハパンチャーは、サンプルを準備する際に歪みのない透過型電子顕微鏡 (電子) と一緒に使用できます。この製品は金属ディスクをパンチして必要なサンプルを取得するため、手作業による製造の難しさや準備時間が軽減されます。この製品は直径 3mm のウェーハを準備するために使用され、主に伸長性と靭性に優れた金属材料に使用されます。市場の類似製品と比較して、PM200 金属ウェーハパンチャーは、同じサイズのウェーハサンプルを準備する際の再現性と寸法精度が優れており、耐用年数は類似製品の数倍です。PM200 金属ウェーハパンチャーは、軽量アルミニウム合金をベースとし、表面に特殊なサンドブラスト酸化処理を施しているため、触ると非常に滑らかです。パンチヘッドはダイス鋼で作られており、熱処理後の表面硬度と耐摩耗性が向上しているため、耐用年数が大幅に向上しています。この製品はレバー構造を採用しており、操作者の力を軽減し、人間工学に優しい製品です。特殊なサイズのウェーハが必要な場合は、パンチャーを個別にカスタマイズできます。
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デジタル加熱プレート
ケニア-デービッド シリーズのデジタル加熱プレートは、材料処理および研究室向けに特別に設計されています。
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ステンレス製のサーモスタット式電気加熱エリアとデジタル温度制御システムを備えており、温度に敏感な材料（結晶、半導体、セラミックなど）の加熱に特に適しています。 -
冷間マウントプレス
1. 高スループットのコールドマウントマシンは、16 個の Ø25mm サンプルを同時にマウントできるため、時間と労力を節約でき、操作が簡単でメンテナンスも簡単です。
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2. 高スループットのコールドマウントマシンはサイズが小さく、作業台の占有面積が少ないため、スペースが限られた研究室や工場環境に適しています。
3. 高スループットの冷間マウント機は、サンプルのサイズと形状に応じてさまざまなマウント金型を交換し、さまざまな処理ニーズに柔軟に適応できます。 -
冷間実装機
1. 真空冷却マウントプレス機はコンパクトで作業台面積をほとんど占有しないため、研究室や生産現場で柔軟に配置できます。
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2. 真空冷却マウントプレス機は、複数のサンプルを同時にマウントできるため、作業効率が向上し、時間が節約されます。
3. 真空冷却マウントプレス機の真空技術により、サンプルの細孔から空気を効果的に除去し、マウント品質を向上させることができます。 -
実験室用小型粉砕装置
1. 実験室用マイクロ研削盤は、サンプルの研削だけでなく、錆除去や面取りなどの複数の機能も備えています。
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2. 実験室用マイクロ研削盤は、小型、軽量、低騒音という特徴があります。
3. 実験室用マイクロ研削盤は、コーナーや狭い内穴を正確に加工できます。
