超音波スピンスプレーコーター（300～3000 回転数、最大12インチウェーハ）

製品紹介:

VTC-300USS超音波スプレースピンコーター/スプレーは、スピンコーティングと超音波スプレーの利点を兼ね備えています。この装置は、標準的な50～60Hzの交流電源を高周波（15kHz～100kHz）の高出力に変換し、超音波霧化ヘッドを駆動します。これにより、高周波電気エネルギーが機械振動エネルギーに変換されます。

このシステムは、低温析出コーティング（例：無線周波数/マイクロ波フェライト堆積）、ポリマーコーティング、粉体および複合コーティング、さらにはパターン化または不規則な基板へのコーティングなど、大型基板上に高密度かつ均一な液相コーティングを形成できます。溶液の化学量論、霧化液滴の吐出速度、および液滴サイズを精密に制御できます。また、独立スピンモードまたは独立スプレーモードでの動作も可能です。

VTC-300USSは、ステッピングモーターとマイクロプロセッサ制御の容積式ポンプを用いて、加熱または非加熱のコーティング溶液を正確に供給します。スイング式支持アームに搭載された超音波アトマイザーは、優れたコーティング均一性を保証します。アトマイザーから噴出されるミスト粒子は基板上に堆積し、所望の材料構造を形成することで、マイクロスケールおよびナノスケールの薄膜を作製できます。

このコーターは、直径12インチ（305 んん）までの基板を収容でき、基板加熱機能によりフィルム乾燥を迅速化できます（オプション）。加熱・ベーキングモジュール）。

この堆積技術は特に酸化膜の形成に適しており、透明電極の製造において長い歴史を持っています。現在では、ペロブスカイト太陽電池をはじめとする先進的な薄膜材料の製造に広く応用されています。

メインFe失業

1. 超音波霧化法 — 溶液を霧状にして基板上に噴霧し、所望の材料構造を形成します。オプションの上部加熱・焼成モジュールを装備することで、成膜を促進できます。この材料調製技術は、特に酸化物の堆積に適しており、透明電極の製造において長い応用実績があります。現在では、ペロブスカイト太陽電池の製造に広く利用されています。

2. スピンコーティングとスプレーコーティングの利点を組み合わせ、大型基板上に高密度かつ均一な液相コーティングを形成できます。

3. 低温沈殿（無線周波数/マイクロ波フェライト堆積など）、ポリマーコーティング、粉体および複合コーティング、パターン付きまたは凹凸のある基板へのコーティングなど、幅広いプロセスに適用できます。

4. システムは、独立したスピン モードと独立したスプレー モードでの動作をサポートします。

T技術的パラメータ

製品名	VTC-300USS 超音波スピンスプレーコーター/接着剤スプレー
製品モデル	VTC-300USS
設置条件	1. 温度および湿度: 10 ~ 85%RH (25℃、結露なし) 温度: 0 ~ 45℃。 2. 設備の周囲に強い地震源や腐食性ガスがないこと。 3. 水：下水排水 4.電気：単相：AC220V 50Hz 10A。 5.ガス： ①真空負圧（真空ポンプ）吸引流量70L/分以上                ②圧縮ガス（エアコンプレッサー） 6. 作業台：推奨1500mm×600ミリメートル×700mm 耐荷重100kg以上（しっかりしたセメント製のプラットフォームが望ましい） 7. 換気装置：特別な要件なし
主なパラメータ	ローテーションホスト 1. ホスト電源ポート 保険付き電源ソケット: AC220V 50Hz 10A 2. ホスト電力≤300W 3.サンプルトレイ（吸盤）ポリプロピレン製真空吸盤：φ203mm、吸着基板径上限：φ305mm 4. 操作モード：反時計回り一方向操作 5. 主軸回転速度：100～3000rpm（有効） 6.速度安定性：±2% 7. スピンドル制御モード：無段階速度制御 8.スイングアームスイング角度：30°-75° 9. スイングアーム制御モード：無段階速度調節 10. 総重量：65kg 11. 装置寸法：540mm×720mm×240mm
	超音波霧化 1.超音波電源ポート：AC220V 50Hz 2.超音波出力：200W 3. 粒子サイズ：10～20μm 4. 流量：0.6pl-4ml/分 5.粘度：≤100cps 6. 固形分含有量: ≤10% 7. 流体粘度範囲：1～50mpa.s（cP） 8. 水溶液用の推奨圧縮空気範囲: ~2psi 9. 噴霧ノズル：円筒形チップ：狭い噴霧径約20mm 1個 10.超音波ノズル周波数：40KHz±10％：振幅パワーギア：1、2、3ギア調整可能
	噴射ポンプシステム 1. ポンプ電源ポート DC24V (標準電源アダプター で: AC100-240V 50/60Hz 外: DC24V 3.75A) 2.ポンプ電力：≤50W 3. 寸法：250×65×50mm 4. 射出速度：0.001～20 んん/分 5.微調整速度：0.001～10 んん/分 6. シリンジ径：0.04～30 んん 7.標準針容量：20ml 8.ストローク設定範囲：0.01～90 んん
	ベーキングランプ - オプション 1. 加熱出力：2kW 2.加熱電源：AC220V 50Hz 3. 本体サイズ：660mm×410mm×635mm 4.加熱方法：赤外線加熱ランプ：放射焼成 5.加熱温度：室温-80℃

標準付属品:

オプションアクセサリ:

シリアルナンバー	名前	機能カテゴリ	画像リンク
1	多チャンネル（加熱可能）液体供給システム、乾燥装置等	（オプション）	-
2	加熱ランプと制御装置 熱電対と温度コントローラを備えたデュアル加熱ランプ（最大 1000 W、最大 80 ℃）が放射によって基板を加熱します（12" 金属基板で最大 65 ℃）。	（オプション）
3	健康と安全の問題に対処するために、スピンコーターをドラフト内に設置することをお勧めします。	（オプション）
4	圧縮ガス噴霧ノズルはNRTL認証付きで入手可能です	（オプション）
5	ご要望に応じてカスタマイズされたマルチノズルもご用意しております	（オプション）

保証

    1 年間限定の永久サポート（不適切な保管条件による錆びた部品は除く）

ロジスティクス