• ディップコーター(1~200 んん/分)最大100℃の乾燥オーブン付き

    ディップコーター(1~200 んん/分)最大100℃の乾燥オーブン付き

    1.PTL 翻訳-MM01 販売価格 定温リフティングコーティングマシンは、液体エピタキシャルフィルムの研究用に特別に設計されています。 2.定温リフティングコーティング機は、ボタン式コントロールパネルとシングルボードコンピュータを採用し、ワイヤーの引っ張り速度を制御してリフターをスムーズかつ正確に動作させます。 3. 恒温昇降コーティング機には、最高 100 ℃ の温度に調節できる恒温オーブンも装備できるため、フィルム成長プロセスを一定温度で実行できます。

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  • プログラム可能な(1-200 んん/分)乾燥オーブン付きディップコーター

    プログラム可能な(1-200 んん/分)乾燥オーブン付きディップコーター

    1.PTL 翻訳-MM02 販売価格 ミリメートル定温プログラマブル制御ディッピングコーティングマシンは、データ入力および出力端子としてカラータッチスクリーンを採用し、引き上げ速度、ディッピング時間と速度、引き上げと戻しの回数、乾燥時間などのパラメータを設定します。 2. ミリメートル定温プログラマブル制御ディッピングコーティング機にはサーモスタットオーブンが装備されており、フィルムの成長プロセスを一定温度で実行できるため、フィルムの凝固に適しています。

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  • 高真空プラズマ化学蒸着システム(プラズマCVD)

    高真空プラズマ化学蒸着システム(プラズマCVD)

    平行板容量性PECVDは、プラズマを使用して反応性ガスを活性化し、基板表面または表面近傍の空間で化学反応を促進して固体膜を形成する技術です。プラズマ化学蒸着技術の基本原理は、高周波またはDC電界の作用下でソースガスがイオン化されてプラズマを形成し、低温プラズマをエネルギー源として使用し、適切な量の反応性ガスを導入し、プラズマ放電を使用して反応性ガスを活性化し、化学蒸着を形成することです。

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  • 球状パルスレーザー蒸着システム

    球状パルスレーザー蒸着システム

    このシステムは、球状パルスレーザー蒸着システム(PLD)の研究開発装置です。パルスレーザー蒸着技術は広く使用されており、金属、半導体、酸化物、窒化物、炭化物、ホウ化物、ケイ化物、硫化物、フッ化物など、さまざまな物質の薄膜を作成するために使用できます。ダイヤモンドや立方晶窒化物膜など、合成が難しい材料膜の作成にも使用されます。

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  • MSK-オーストラリア農業協会-IV 小型コーティング機

    MSK-オーストラリア農業協会-IV 小型コーティング機

    1. 無段階速度コーティングマシンは輸入部品を使用しており、安全で耐久性があります。 2. 無段階速度コーティング機は技術がアップグレードされ、さまざまな基材に適応できます。 3. 無段階速度コーティングマシンは当社が独自に開発したもので、コンパクトで耐久性があり、実験室での実験に適しています。

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  • 実験室用小型押出フィルムコーティング機

    実験室用小型押出フィルムコーティング機

    1. 薄膜調製コーティング機は小型で分割設計を採用しており、各部品を異なる位置に配置できます。 2.薄膜調製コーティング機は24V電源を使用し、グローブボックス内で使用できます。 3. 薄膜調製コーティング機はセットアップが簡単で、プラグアンドプレイが可能で、圧縮ガスや真空パイプラインを必要としません。

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  • プラズマスパッタリングおよび蒸発カーボンコーティングマシン

    プラズマスパッタリングおよび蒸発カーボンコーティングマシン

    1.ラボ多機能フィルム堆積コーターは、走査型電子顕微鏡サンプル表面の金スプレー、金蒸発、または炭素蒸発プロセスに対応できます。 2.ラボ多機能フィルム堆積コーターは、材料研究におけるさまざまな新材料性能実験に使用できます。 3.ラボ用多機能フィルム蒸着コーターは小型で、実験室のスペースを節約し、操作が簡単で、清掃も簡単です。

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  • 卓上型自動超音波噴霧熱分解装置

    卓上型自動超音波噴霧熱分解装置

    1.自動超音波噴霧熱分解機はPLCプログラム制御を採用しており、タッチスクリーンは操作が簡単です。 2.自動超音波噴霧熱分解機は、リニアガイドレールスライドウェイ構造に接続された同期プーリーを採用しており、高速かつ低騒音です。 3.自動超音波噴霧熱分解機は板金フレーム構造を採用しており、外観が美しいです。 4.自動超音波噴霧熱分解機は、さまざまなノズルを交換し、高さを調整して、噴霧表面に最適な効果を得ることができます。

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  • マグネトロンスパッタリングコーター

    マグネトロンスパッタリングコーター

    1. 真空マグネトロンスパッタリングコーティング機は、大容量のスパッタリング真空チャンバーと、電界内のガスイオン化特性に応じた対応面積のスパッタリングターゲットを使用して、スパッタリングコーティングをより均一かつ純粋にすることができます。 2. 真空マグネトロンスパッタリングコーティング機のスパッタリングヘッドは、ペルチェ冷却技術を採用しており、高性能の微粒子コーティングを実現します。 3. 真空マグネトロンスパッタリングコーティング装置は、水冷式スパッタリングヘッドと水冷式ステージを使用することができます。

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